英偉達攜手臺積電讓芯片計算光刻加速40倍以上
3月21日晚間，英偉達春季GTC技術(shù)大會召開，英偉達宣布推出cuLitho軟件加速庫，可以將計算光刻的用時提速40倍。所謂計算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，掩膜是一種平面透明或半透明的光學(xué)元件，上面有芯片加工所需的圖案，按照是否需要曝光將圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠層上。光刻加工過程開始后，通過控制光刻機的曝光和開關(guān)操作，可以將光束根據(jù)掩膜上的圖案進行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的區(qū)域，從而將芯片上的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠層上，實施芯片光刻。
因為每種芯片都要經(jīng)歷多次曝光，所以光刻中使用的掩膜數(shù)量不盡相同。NVIDIA H100（臺積電4N工藝，800億晶體管）需要89張掩膜，Intel的14nm CPU需要50多張掩膜。此前“精雕細琢”的計算光刻依賴CPU服務(wù)器集群，現(xiàn)在NVIDIA表示，500套DGX H100（包含4000顆Hopper GPU）可完成與4萬顆CPU運算服務(wù)器相同的工作量，但速度快40倍，功耗低9倍。
3月21日晚間，英偉達春季GTC技術(shù)大會召開，英偉達宣布推出cuLitho軟件加速庫，可以將計算光刻的用時提速40倍。所謂計算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，掩膜是一種平面透明或半透明的光學(xué)元件，上面有芯片加工所需的圖案，按照是否需要曝光將圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠層上。光刻加工過程開始后，通過控制光刻機的曝光和開關(guān)操作，可以將光束根據(jù)掩膜上的圖案進行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的區(qū)域，從而將芯片上的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠層上，實施芯片光刻。
因為每種芯片都要經(jīng)歷多次曝光，所以光刻中使用的掩膜數(shù)量不盡相同。NVIDIA H100（臺積電4N工藝，800億晶體管）需要89張掩膜，Intel的14nm CPU需要50多張掩膜。此前“精雕細琢”的計算光刻依賴CPU服務(wù)器集群，現(xiàn)在NVIDIA表示，500套DGX H100（包含4000顆Hopper GPU）可完成與4萬顆CPU運算服務(wù)器相同的工作量，但速度快40倍，功耗低9倍。
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